大面积中阶梯光栅方面，中心研制出“大型高精度衍射光栅刻划系统”，并利用该刻划机研制出了 400mm×500mm中阶梯光栅，其衍射效率优于 55%，杂散光优于10 -5，波前质量优于1/3@632.8nm。目前拟转化的大面积光栅是刻划面积为360mm×60mm，刻线密度为 112.96gr/mm，衍射效率优于60%，杂散光优于10-5，波前质量优于 1/3@632.8nm；

高精度全息光栅方面，中心研制出具备制造 650mm×1700mm 单体无拼缝全息光栅的能力的扫描干涉场曝光系统。另外，开发出了多种全息光栅产品。目前拟转化的具体光栅：刻线密度为 1800gr/mm，刻划面积为 50mm×50mm的平面光栅，衍射效率优于 70%，波前质量优于 1/3@632.8nm；刻线密度为900gr/mm，有效面积为 64mm×64mm 的凹面光栅，衍射效率优于60%。