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等离子体/微波辅助 CVD 高通量沉积装置的集成智能控制系统
合作区域:
拟投入总金额: 万元
所属地域: 高新区
技术领域: 制造系统与自动化
技术交易金额: 0.0万元
发布日期: 2025-11-05
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信息描述
技术简介：
CVD 技术即化学气相沉积，是材料制备的重要方法之一，主要用于制备各种高性能薄膜材料、纳米材料等。该系统在半导体制造、光伏产业等电子信息相关行业中有着广泛应用。
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