本发明涉及一种具有包覆结构的二硼化钛-镍薄膜，其特征在于该TiB2-Ni薄膜是以金属Ni为连续相，TiB2晶粒为弥散相原位复合而成，在该TiB2-Ni薄膜中，金属Ni以三维连续胞状结构均匀构成薄膜的基本构架，而TiB2晶粒则以颗粒状均匀的填补在胞状结构内部，形成金属Ni均匀包裹TiB2晶粒的包覆显微结构，其中TiB2含量为60-95at.％，Ni含量为5-40at.％。本发明的包覆结构的TiB2-Ni薄膜表现出了良好的韧性和很高的硬度，这极大扩大了此薄膜的应用范围；同时采用双靶共溅射磁控溅射技术操作方便，通过工艺条件的调控可以很好的控制TiB2-Ni薄膜材料的组成、结构和性能，并且该方法无需后处理工序，制备周期短，成本低，可复现性好，便于实现工业化生产。