本技术核心是提出一种“基于微孔填充的量子点色转换膜制备方法”。该方法通过刮涂填充与表面抛光两个关键步骤,成功制备出像素尺寸覆盖2-200μm、最高像素密度超5000ppi的单色与双色QDCC,其发光均匀性优良。相较于传统光刻与喷墨印刷,此方法兼具加工速度快、通用性强和出色灵活性的优势。它能便捷地通过模具深度与抛光程度调控量子点厚度,从而优化对Micro-LED蓝光的吸收与光转换效率。此外,无溶剂的抛光工艺有效去除了表面残留量子点,避免了传统光刻法对量子点的破坏与兼容性问题。