本成果采用飞秒激光双光子 3D 直写和磁控溅射镀膜相结合的方法来制作微电容。 相对比于传统加工技术，激光加工有着加工精度高，对加工材料影响小，加工速度快且 污染和噪声相对较小等优点。

本成果设计了一种叉指微电容结构，由于载玻基片的不够平整、周围环境变化引起 激光功率不稳定等原因，导致制作周期数过大、整体结构过长的图案时，激光焦点总会 偏离基片而使得制作的图案常常会变形甚至飘移。科研团队通过一种分段3D直写的方法， 并且我们还将原本平面的挡膜图案设计成山脉状立体图案，这样在制作时，挡膜图案会 更容易固定在载玻片上，而且不容易变形。本发明也提出了一种二次镀膜制作引线的方法， 这种方法制作的引线更牢固接触电阻也更小。