硅基光电异质集成工艺
合作区域: 国内
拟投入总金额: 100.0万元
所属地域: 余姚市
技术领域: 光学和光电子学
技术交易金额: 万元
截止日期: 2027-05-14
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信息描述
研发背景:
主要内容:

III-V族半导体、薄膜铌酸锂、硅光等多种材料进行异质集成,才能实现高性能激光器、高速调制器、宽带探测器的芯片级集成

前期研究开发基础:

现有的生产和研发的设备:
攻关目标:

异质材料间的晶格失配与热管理硅基平台上的高效光耦合(耦合损耗需降至<1dB)晶圆级异质集成的良率与可重复性

成果形式:

自主可控的异质集成工艺平台